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KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具

更新時間：2024-04-13      瀏覽次數：410

KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具

在線厚度測量系統

監測控制生產過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到

F30 系列


監控薄膜沉積，最的強的有力的工具

F30 光譜反射率系統能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及

電介質層的均勻性。



樣品層

分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實

際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。

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各項優點:

  • 極大地提高生產力

  • 低成本 —幾個月就能收回成本

  • A精確 — 測量精度高于 ±1%

  • 快速 — 幾秒鐘完成測量

  • 非侵入式 — 完的全的沉積室以外進行測試

  • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

  • 幾分鐘就能準備好的系統

型號規格

*取決于薄膜種類

型號

厚度范圍*波長范圍
F3015nm-70µm380-1050nm
F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
F30-UV3nm-40µm190-1100nm
F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm


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